搭載最尖端場發射電(diàn)子光(guāng)學系統
将島津EPMA分析性能(néng)發揮到(dào)極緻
超高(gāo)分辨率面分析
對碳膜上(shàng)Sn球放(fàng)大3萬倍進行面分析。即使是SE圖像（左側）上(shàng)直徑隻有50nm左右的Sn顆粒，在X射線圖像（右側）上(shàng)也是清晰可見(jiàn)。
■ 大束流超高(gāo)靈敏度分析
實現3.0μA（加速電(diàn)壓30kV）的最大束流。
全束流範圍無需更換物(wù)鏡光(guāng)闌。
■ 最多(duō)可同時搭載5通(tōng)道高(gāo)性能(néng)4英寸X射線譜儀
無人可及的52.5°X射線取出角。4英寸羅蘭圓半徑兼顧高(gāo)靈敏度與高(gāo)分辨率。
最多(duō)可同時搭載5通(tōng)道相(xiàng)同規格的X射線譜儀。
■ 全部分析操作簡單易懂(dǒng)
全部操作僅靠一(yī)個(gè)鼠标就(jiù)可進行的先進可操作性。
追求「易懂(dǒng)」的人性化用戶界面。
搭載導航模式，自(zì)動指引直至生(shēng)成報(bào)告。
■ 無與倫比卓越的空間分辨率
EPMA可達到(dào)的最高(gāo)級别的二次電(diàn)子圖像分辨率3nm（加速電(diàn)壓30kV）分析條件(jiàn)下(xià)No.1的二次電(diàn)子分辨率。（加速電(diàn)壓10kV時20nm@10nA/50nm@100nA/150nm@1μA）
■ 二次電(diàn)子圖像最高(gāo)分辨率3nm
碳噴鍍金顆粒的觀察實例。實現最高(gāo)分辨率
3nm（@30kV）。相(xiàng)對較高(gāo)的束流也可将電(diàn)子束壓
細聚焦，更加容易的獲得高(gāo)分辨率的SEM圖像
超高(gāo)靈敏度面分析
使用1μA束流對不鏽鋼進行5000倍的面分析。精确地捕捉到(dào)了Cr含量輕微不同形成的不同的相(xiàng)（左側），同時也成功地将含量不足0.1%的Mn分布呈現在我們眼前（右側）。
實現微區超高(gāo)靈敏度分析的先進技(jì)術(shù)
1 高(gāo)亮度肖特基發射體
場發射電(diàn)子槍采用的肖特基發射體比一(yī)般傳統SEM使用的發射體針尖直徑更大，輸出更高(gāo)。即可以保持其高(gāo)亮度，還(hái)可提供高(gāo)靈敏度分析不可缺少的穩定大電(diàn)流。
2 EPMA專用電(diàn)子光(guāng)學系統
電(diàn)子光(guāng)學系統，聚光(guāng)透鏡盡可能(néng)的接近電(diàn)子槍一(yī)側，交叉點不是靠聚光(guāng)透鏡形成，而是由安裝在與物(wù)鏡光(guāng)闌相(xiàng)同位置上(shàng)，具有獨立構成與控制方式的可變光(guāng)闌透鏡來形成交叉點的（日本專利：第4595778号）。簡單的透鏡結構，既能(néng)獲得大束流，同時全部電(diàn)流條件(jiàn)下(xià)設定最合适的打開(kāi)角度，将電(diàn)子束壓縮到(dào)最細。當然是不需要更換物(wù)鏡光(guāng)闌的。
3 超高(gāo)真空排氣系統
電(diàn)子槍室、中間室、分析腔體之間分别安裝有篩孔（orifice）間隔方式的2級差動排氣系統。中間室與分析腔體間的氣流孔做到(dào)最小(xiǎo)，以控制流入中間室的氣體，使電(diàn)子槍室始終保持著(zhe)超高(gāo)真空，确保發射體穩定工(gōng)作。
4 高(gāo)靈敏度X射線譜儀
最多(duō)可同時搭載5通(tōng)道兼顧高(gāo)靈敏度與高(gāo)分辨率的4英寸X射線譜儀。52.5°的X射線取出角在提高(gāo)了X射線信号的空間分辨率的同時，又(yòu)可減小(xiǎo)樣品對X射線的吸收，實現高(gāo)靈敏度的分析。
